Canon Nanoimprint Lithography: Προς μια νέα εποχή για την παραγωγή τσιπ

Η Canon έκανε αίσθηση πέρυσι με την κυκλοφορία του πρώτου συστήματος nanoimprint λιθογραφίας (NIL), προσφέροντας μια εναλλακτική στην παραδοσιακή DUV και EUV λιθογραφία. Αυτή την εβδομάδα, η Canon παρέδωσε το FPA-1200NZ2C nanoimprint lithography σύστημα στο Texas Institute for Electronics (TIE) για έρευνα και ανάπτυξη, γεγονός που μπορεί να αποδειχθεί καθοριστικό για την υιοθέτηση της NIL. Το TIE, υποστηριζόμενο από μεγάλες εταιρείες όπως Intel, NXP και Samsung, έχει στόχο να διερευνήσει τις δυνατότητες της τεχνολογίας NIL για τη μελλοντική της εφαρμογή στην παραγωγή τσιπ.

Η NIL διαφοροποιείται από την DUV και EUV τεχνολογία, καθώς χρησιμοποιεί έναν καλούπι για να «σφραγίσει» το σχέδιο κυκλωμάτων απευθείας στο υπόστρωμα αντί να προβάλλει το σχέδιο με φως. Αυτή η μέθοδος μπορεί να μειώσει το κόστος παραγωγής και να επιτρέψει την αναπαραγωγή πολύπλοκων σχεδίων με μεγαλύτερη ακρίβεια. Αν και η NIL μπορεί να παράγει τσιπ στα 5nm και ενδεχομένως να φτάσει τα 2nm στο μέλλον, υπάρχουν προκλήσεις, όπως η ανάγκη για νέα υλικά και η προστασία από σωματίδια σκόνης που μπορούν να επηρεάσουν την ποιότητα.

Παρά τις δυσκολίες, η Canon στοχεύει στην πώληση 10 έως 20 συστημάτων ετησίως μέσα στα επόμενα τρία με πέντε χρόνια, ελπίζοντας πως οι δοκιμές στο TIE θα πείσουν τους κατασκευαστές να υιοθετήσουν την NIL. Ωστόσο, η ενσωμάτωση της NIL στη σημερινή παραγωγή τσιπ είναι δύσκολη, καθώς η τεχνολογία δεν συμβαδίζει με τις ροές εργασίας DUV ή EUV, αναγκάζοντας τους κατασκευαστές να σχεδιάσουν νέες διαδικασίες παραγωγής, κάτι που ενέχει υψηλό κόστος και ρίσκο.